Masque Purifiant Express en Stick à l’Argile & Centella de Madagascar

€19,90 EUR

Promotion Épuisé

Taxes incluses.

Ce masque à l'argile de SKIN1004 contient de la niacinamide et de l'acide hyaluronique pour purifier les pores et apaiser la peau.

Bienfaits :

Désincruste les pores et absorbe l’excès de sébum.
Purifie la peau grâce à l’argile.
Apaise avec la Centella de Madagascar.

Types de peaux : peau mixte, peau grasse, peau normale.

Préoccupations : pores dilatés, acné et imperfections.

Contenance 27 g

Mode d'emploi

Appliquez sur le visage préalablement nettoyé, en évitant les zones autour des yeux et de la bouche, puis rincez abondamment à l'eau tiède après 3 à 5 minutes.

Conseils de KOREA BEAUTY

Ce masque en bâton est parfait pour un nettoyage en profondeur ciblé des pores. Étant un masque à l'argile, il est puissant et il est recommandé de l'utiliser 1 à 2 fois par semaine sur votre visage nettoyé. Pour les peaux plus sèches, vous pouvez l'appliquer uniquement sur la zone T (front, nez, menton) pour ne pas assécher le reste du visage. Rincez toujours le masque avant qu'il ne sèche complètement pour éviter toute sensation de tiraillement.

Composition

Eau, Extrait de Centella Asiatica, Kaolin, Butylène Glycol, Bentonite, Huile de noix de coco (Cocos Nucifera), 1,2-Hexanediol, Silice, Huile de graine de Limnanthes Alba (Meadowfoam), Polyglyceryl-3 Polyricinoleate, Palmitate d'éthylhexyle, Palmitate d'isopropyle, Hydroxyde de sodium, Ethylhexylglycérine, Trisodium Ethylenediamine Disuccinate, Acide citrique.

RP (EU) : Lebenko GmbH/ Mart-Stam-straße 49, 60438, Frankfurt am Main, Allemagne

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Niacidamine

Rétinol

AHA / BHA

Vitamine C

Niacidamine

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AHA / BHA

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Rétinol

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Acide Hyaluronique

Acide Azélaïque

Péroxyde de Benzoyle

Vitamine C

Compatibilité prouvée

Effet atténué

À éviter

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