Masque Régénérant à la Centella de Madagascar

€3,50 EUR

Promotion Épuisé

Taxes incluses.

Ce masque en feuille de SKIN1004 contient de l'extrait de Centella de Madagascar, de l'acide hyaluronique et de la niacinamide pour apaiser et hydrater la peau en profondeur.

Bienfaits :

Hydrate en profondeur grâce à sa texture gel.
Apaise les peaux irritées ou sensibles.
Laisse la peau fraîche et repulpée.

Types de peaux : peau sensible, peau normale, peau sèche, peau mixte, peau grasse.

Préoccupations : rougeurs, déshydratation, acné et imperfections.

Contenance 1 unité

Mode d'emploi

Conseils de KOREA BEAUTY

Composition

Extrait de Centella Asiatica, Eau, Dipropylène Glycol, Glycéreth-26, Glycérine, 1,2-Hexanediol, Bétaïne, Butylène Glycol, Extrait de racine de Paeonia Suffruticosa, Polyglyceryl-10 Laurate, Extrait de fleur de Camomille (Matricaria), Glyceryl Caprylate, Carbomer, Gomme de Xanthane, Arginine, Ethylhexylglycérine, Hyaluronate de sodium, Dextrine, Propanediol, Extrait de Theobroma Cacao (cacao), Extrait de racine de Coptis Japonica, Huile de Mentha Arvensis, Crosspolymer d'hyaluronate de sodium, Hydrolyzed Glycosaminoglycans, Benzyl Glycol, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Acide hyaluronique, Raspberry Ketone, EDTA disodique.

Pour la liste d'ingrédients la plus récente, consultez l'emballage du produit ou contactez-nous pour obtenir une photo.

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Onglet 1

Qu'est-ce qu'un masque coréen ?

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drapeau français, couleurs plates sans degradés, image de forme ronde

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Péroxyde de Benzoyle

Niacidamine

Rétinol

AHA / BHA

Vitamine C

Niacidamine

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AHA / BHA

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Rétinol

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Acide Azélaïque

Péroxyde de Benzoyle

Vitamine C

Compatibilité prouvée

Effet atténué

À éviter

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